アイスモスはカスタム品や、コストメリットある高パフォーマンスのスーパージャンクションMOSFETおよびMEMSや高度な技術基盤を専門に取り扱っております                                          







SOI と SiSi

アイスモス・テクノロジーは100-200mmの厚膜SOIやSiSiボンディングウエハーなど、ICやMEMS分野において広く応用できるウエハーのリードサプライヤーです。SOI製造に20年以上の経験があり、市場に幅広く対応できるレンジの製品をお届けします。

MEMS用高度技術基盤

アイスモス・テクノロジーには同じチップ上の構成要素同士を高耐圧部で分けるなどといった、誘電体分離技術があります。隔離部は厚膜SOI技術と高いアスペクト比の深いトレンチエッチおよび酸化膜/ポリ埋め込み構造で構成されています。この技術は100-150㎜および、デバイスレイヤー厚さ1.5-100umに適用できます。

スーパージャンクション MOSFET

アイスモスのMEMS MOSFETは高耐圧のスーパージャンクション技術が使われています。シリコンのMOSFETとMEMSプロセス技術の融合で、アイスモスは世界的ベストインクラスのパフォーマンスをお届けします。よく知られたMEMS技術を独自の製造技術を発展させて、より小さい寸法へ展開し、この二つの技術の融合によりMOSFETの最高のパフォーマンスを前進させます。

アイスモス のホームページへようこそ

アイスモス・テクノロジーは高いパフォーマンスを発揮するスーパージャンクションMOSFETおよびMEMS技術策、高度な技術基盤ウエハーやSOI(シリコンオンインシュレーター)、貼り付けシリコン基板を、高い費用対効果で提供することを目指して設立いたしました。

弊社は卓越した製造技術と最新の技術開発で20年以上の経験を包括しております。アイスモス・テクノロジーは、すべてのお客様が最初のお問合せから製品のデリバリーを通して、素晴らしいサービスが受けられることを確実にします。

革新的な製品開発のご提案やデザイン、特別なサービスなど、アイスモスのエンジニアチームが御社へ技術的なサポートに対応いたします。我々のチームは、お客様の注文に応じて、解決方法と独自のサービスを半導体業界における最新の方法にてお届けします。アイスモス・テクノロジーでは、ホームページに記載されていない製品などがありましたら、お客様と直接働きかけながら、独自に特注で製品を開発することもできます。これがアイスモスの比類のない製品サービスとなります。

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