アイスモス・テクノロジーについて

アイスモス・テクノロジーは高いパフォーマンスを発揮するスーパージャンクションMOSFETおよびMEMS技術策、高度な技術基盤ウエハーやSOI（シリコンオンインシュレーター）、貼り付けシリコン基板を、高い費用対効果で提供するベストインクラスのサプライヤーとして2004年に設立いたしました。

アイスモスは革新的な深いトレンチエッチを持つMEMS構造の高耐圧スーパージャンクションMOSFETを、シンプル且つ低コストプロセスで開発、実現しました。

スーパージャンクションMOSFETのアプリケーションは以下のような分野に適用できます。

弊社はこのようなクリーンテクノロジーやクラウドコンピューターなどのトレンドなどにも十分対応できる体制にあります。

アイスモス・テクノロジーは高品質なMEMS製品基板や高度な技術基盤を提供し、我々の得意とするウエハー貼り付け技術で製造と開発をリードします。

弊社の製品は以下のようなものがあります。

弊社の専門技術としてはウエハーの貼り付けWafer Bonding、深掘り反応性イオンエッチング　Deep Reactive Ion Etching(DRIE)、そしてウエハー研磨があります。

このDRIEを使ってトレンチエッチと埋め込みサービスをバルクシリコンやSOIウエハーなどに適用し,お客様へ独自の誘電体絶縁基板を提供いたします。

SOI材料は、テレコミュニケーション製品や光学デバイス、ICの絶縁や無接点リレーやMEMSセンサー向けマイクロマシーン構造体、アクチュエーター、スイスの高級腕時計産業へのシリコンパーツなどといった、幅広い分野において適用されております。

アイスモス・テクノロジーは既存にない製品であれば、お客様と一緒になって特別な独自製品を開発いたします。これがアイスモスの製品として比類のないサービスとなっております。

10年以上の経験をもとに製造のスキルと最先端の技術開発によって、お客様がお問合せから製品供給までの優れたサービスを受けることができるようお応えしていきます。技術チームが革新的な製品開発のためのデザインやサービスを提供いたします。ISO 9001・ISO14001/IATF16949 を継続的に回しながら社員教育を重視し、高度な技術産業として最新技術が獲得できるように努めます。

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