CIOE 2023 (The 24th China International Optoelectronic Exposition)
9/6(水）~9/9（金）、中国の深圳におきまして、CIOE 2023のオプトエレクトロニクスの国際展示があり、INIブースより北アイルランドの企業としてアイスモス・テクノロジーが出展いたしました。
ブースはホール２の２C012となります。
2日目には弊社のRami Zakaria, PhD Director, Sales & Marketingによる講演があり、
オプトエレクトロニクス向けのウエハー基盤としてトレンチ隔離によるSOIウエハーのご提案をさせて頂きました。
これは従来のジャンクションによる隔離と比較し、高いアスペクト比を持つ深いトレンチによって製作するチップの面積を大幅に減少できるというものです。また、デバイスの高いキャパシタンスなどの要因も取り除くことができ、寄生ダイオードなどのパスを防ぐことが可能となります。トレンチにより１００V以上の隔離も可能となります。
アライメント問題、フィルムとのストレス、イオンインプラのコントロールなど様々な製造問題をジャンクション隔離の代わりにディープトレンチであれば容易に防ぐことができます。
弊社ホームページよりお気軽にお問合せ下さい。
